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奈米機電系統研究中心

Laser lithography DWL 2000 (雷射繪圖機)-卓越大樓

儀器名稱

雷射繪圖機
Heidelberg / DWL 2000

儀器圖片

用途

利用強度可變的雷射束對基片表面的光阻曝光,顯影後在光阻層形成所要的設計圖形。

儀器規格

  • 最大放置基板:9" × 9"
  • 直寫最大區域:20 × 20 cm²
  • 基板厚度:0–7 μm
  • 直寫最小線寬:0.8 μm
  • 最高直寫速度:1.1 cm²/min
  • 位移解析度:10 nm
  • 可執行灰階直寫。

注意事項

  1. 只開放代工。
  2. 如需製作直寫或灰階,須先進行測試製程,詳細測試內容請洽中心人員。
  3. 只開放正光阻之直寫。