奈米機電系統研究中心

儀器名稱

曝光機 (MA6)

SUSS / MABA6

用途

製造微機電、光電、二極體大規模積體電路的關鍵影像轉移設備，原理是利用紫外線通過光罩、底片等圖案模版，並搭配顯影劑使用，去除晶圓表面的光阻，以形成積體電路圖案。

儀器規格

• 光罩載台大小：3”~4” (載台最大曝光範圍4“)
• 晶圓大小：~4”
• 可曝光區域：4"
• 汞燈：350 W
• 曝光波段：I (365nm)、H (405nm)、G (436nm) line
• 曝光強度：現場標示
• 對準系統：雙面
• 解析度：0.8~2.5 um

注意事項

1. 只有已通過訓練及檢定之使用者允許操作本儀器。
2. 因光阻為有機溶劑,操作請戴上耐酸鹼手套。
3. 曝光時UV會傷害眼睛，請勿直視。
4. 更換載台請輕拉輕放，以免磨損。
5. 旋轉XY旋鈕，移動晶圓載台時，請小心轉動，以免旋鈕損壞。
6. 使用完請復歸。

• [IAM] MA6 Aligner